編譯/VR陀螺
美國專利商標局今天正式為蘋果公司發(fā)布了一系列62項新授予的專利。在其中,有一項專利與增強現(xiàn)實/虛擬現(xiàn)實(AR / VR)有關(guān),尤其涉及用于校準頭戴式設(shè)備(HMD)以改善AR/VR系統(tǒng)的方法和設(shè)備的內(nèi)容交付。
由于虛擬現(xiàn)實(VR),增強現(xiàn)實(AR)和混合現(xiàn)實(MR)能夠改變用戶對世界的感知能力,因此它們變得越來越流行。例如,VR,AR和MR越來越多被用于學(xué)習(xí)、游戲、內(nèi)容創(chuàng)建,社交媒體和交互目的等。
用戶可以通過使用頭戴式設(shè)備(HMD)來體驗VR內(nèi)容,該頭戴式設(shè)備將用戶的視野包圍起來,并連接在計算機上。
作為另一示例,用戶可以通過佩戴可以看到周圍環(huán)境的HMD(例如,具有光學(xué)透視的眼鏡)來體驗AR內(nèi)容。
在以上示例中,HMD通常是一種萬能的設(shè)備。但是,HMD的用戶在個體上有差異,例如頭圍,瞳孔間距離(IPD)等,這會影響在佩戴這些設(shè)備時的用戶體驗。例如,由于兩個用戶之間的IPD差異,與另一個用戶相比,一個用戶的內(nèi)容可能在顯示上出現(xiàn)離焦或偏心。
蘋果公司的發(fā)明涵蓋了用于校準頭戴式設(shè)備(HMD)以改進增強現(xiàn)實/虛擬現(xiàn)實(AR / VR)內(nèi)容交付的設(shè)備、系統(tǒng)和方法。
根據(jù)一些實施方式,該方法在具有一個或多個處理器、非暫時性存儲器、圖像傳感器和深度傳感器的設(shè)備上執(zhí)行。
該方法還包括:基于由深度傳感器獲得的深度數(shù)據(jù)和由圖像傳感器獲得的圖像數(shù)據(jù)的函數(shù),為用戶確定瞳孔間距(IPD)。
接下來,通過基于IPD測量設(shè)置HMD的一個或多個呈現(xiàn)參數(shù),校準用于傳遞增強現(xiàn)實/虛擬現(xiàn)實(AR / VR)內(nèi)容的頭戴式設(shè)備(HMD),以將一個或多個AR / VR內(nèi)容呈現(xiàn)給用戶。
蘋果的專利圖1是示例操作環(huán)境100的框圖。在一些實現(xiàn)中,控制器#110被配置為管理和協(xié)調(diào)用戶的增強現(xiàn)實/虛擬現(xiàn)實體驗。在一些實施方式中,控制器包括軟件、固件和/或硬件的適當組合。
HMD#120向用戶呈現(xiàn)增強現(xiàn)實/虛擬現(xiàn)實體驗,而用戶實際上存在于場景105中。在一些實現(xiàn)中,當呈現(xiàn)增強現(xiàn)實體驗時, HMD配置為呈現(xiàn)AR內(nèi)容并啟用場景#105的光學(xué)透視。在一些實現(xiàn)中,在呈現(xiàn)虛擬現(xiàn)實體驗的同時,HMD被配置為呈現(xiàn)VR內(nèi)容。
在一些實施方式中,校準設(shè)備#130被配置為可選地為用戶確定瞳孔間距測量。在一些實施方式中,校準設(shè)備被配置為可選地基于針對用戶的IPD測量來校準HMD的一個或多個呈現(xiàn)參數(shù),以便使HMD的一個或多個AR / VR顯示適應(yīng)用戶視場。在一些實施方式中,HMD被配置為通過確定IPD測量值來自動校準其一個或多個呈現(xiàn)參數(shù)。
在專利圖5中,校準設(shè)備使用設(shè)備上的一個或多個正面圖像傳感器捕獲用戶的“自拍照”。設(shè)備會在圖像數(shù)據(jù)#500中識別出面部#505(或其區(qū)域)。例如,設(shè)備基于已知的面部識別或計算機視覺算法或技術(shù)來識別面部。在一些實施方式中,設(shè)備能識別眼睛的位置510a和510b。
蘋果的專利圖6示出了示例深度數(shù)據(jù)。在一些實施方式中,設(shè)備識別深度/網(wǎng)格圖#600內(nèi)的至少一個參考點,并基于從設(shè)備到參考點的距離來確定深度測量。
作為一個示例,設(shè)備將眼睛#610a和/或#610b識別為參考點,并將從一只眼睛或兩只眼睛到設(shè)備的距離確定為深度測量。
在另一個示例中,該設(shè)備將鼻尖#615識別為參考點,并將從鼻尖到該設(shè)備的距離確定為深度測量。在又一示例中,設(shè)備將下巴#620識別為參考點,并將從下巴到設(shè)備的距離確定為深度測量。在另外一個示例中,該設(shè)備將鼻子的鼻梁#625識別為參考點,并將從鼻子的鼻梁到該設(shè)備的距離作為深度測量。
蘋果的專利圖7是根據(jù)一些實施方式的基于圖像和深度數(shù)據(jù)確定瞳孔間距(IPD)的方法#700的流程圖。
蘋果這一授權(quán)專利最初于2018年第二季度提交。
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